SKU: 186003540
ACQUITY UPLC HSS T3 Column, 100Å, 1.8 µm, 2.1 mm X 150 mm, 1/pk
填料 |
C18 |
分离模式 |
反相 |
颗粒基质 |
Silica |
pH Range Min |
2 pH |
pH Range Max |
8 pH |
Temperature Limits |
45 C |
Maximum Pressure |
18000 psi (1240 Bar) |
Endcapped |
是的 |
键合技术 |
T3 |
Silanol Activity |
Medium |
Particle Shape |
Spherical |
粒径 |
1.8 µm |
Endfitting Type |
Parker-style |
孔径 |
100 Å |
规格 |
色谱柱 |
表面积 |
230 |
系统 |
UHPLC, UPLC |
颗粒技术 |
HSS |
USP分类 |
L1 |
内径 |
2.1 mm |
长度 |
150 mm |
Carbon Load |
11 % |
eCord |
是的 |
UNSPSC |
41115709 |
品牌 |
ACQUITY UPLC |
产品类型 |
色谱柱 |
Units per Package |
1 pk |
ACQUITY UPLC HSS T3 柱,100Å,1.8 µm,2.1 mm X 150 mm,1/包
通过反相液相色谱法使用ACQUITY UPLC HSS T3 柱,100Å,1.8 µm,2.1 mm X 150 mm,1/包,实现对极性化合物和代谢物的增强保留。这是一种低配体密度的C18柱,能够让分析物轻松进入材料的孔结构。无需离子对试剂即可实现极性和疏水分子的平衡保留。用于ACQUITY HSS T3 吸附剂的通用硅胶基键合相与水相流动相100%兼容,使其成为开发极性或非极性化合物分离的实验室设备的首选。
ACQUITY UPLC HSS T3 柱的卓越性能归功于Waters公司新的先进T3键合工艺。T3键合工艺利用三功能C18烷基相,以促进极性化合物保留和水相流动相兼容性的配体密度进行键合。通过专有的封端工艺,T3比其他柱上常见的三甲基硅烷(TMS)封端更有效。键合和封端的结合允许优越的极性化合物保留和水相兼容性,同时增强柱性能、寿命、峰形和稳定性。
每批ACQUITY HSS柱都是为与Waters ACQUITY UPLC系统一起使用而创建的。它们在CGMP ISO 9001:2000认证的工厂中制造,使用超纯试剂。每批次也通过酸性、碱性和中性分析物的色谱测试,结果符合严格规格,以确保重现性和卓越性能。
ACQUITY UPLC HSS T3 柱旨在解决分离科学家面临的常见问题,包括保留小型水溶性极性有机模块。该柱专为保留和分离极性有机化合物而设计。结合UPLC技术,可以比其他工具更快、更准确地开发出稳健的方法。
ACQUITY UPLC HSS T3 柱,100Å,1.8 µm,2.1 mm X 150 mm,1/包
1. ACQUITY UPLC HSS T3 柱推荐的流动相pH范围是多少?
ACQUITY UPLC HSS T3 柱推荐在pH范围2到8内操作。这个pH范围对于保持柱的完整性和确保最佳性能至关重要。在此范围之外操作可能导致柱降解或随着时间的推移效率降低。例如,高酸性或碱性流动相可能会损坏固定相或导致材料的浸出,从而导致柱寿命缩短和分离分辨率降低。
2. ACQUITY UPLC HSS T3 柱的柱尺寸和填料是什么?
ACQUITY UPLC HSS T3 柱的特点是其精确的尺寸和专门的填料。其内径(ID)为2.1 mm,长度为150 mm,使其适合于超高效液相色谱(UPLC)中的高效分离。
该柱填充有1.8 µm颗粒,这有助于其提供高分辨率和快速分离的能力。较小的颗粒尺寸允许改善峰形和更准确的分析物定量,特别是在复杂样品基质中。
3. ACQUITY UPLC HSS T3 柱的典型柱寿命是多少?
ACQUITY UPLC HSS T3 柱的寿命可能因多个因素而异,包括样品基质、使用频率以及柱的维护情况。一般来说,在适当的护理和定期维护下,柱可以处理数百次注射,然后其性能开始下降。
为了延长柱的寿命,关键是使用合适的流动相,避免样品过载,并遵循推荐的清洁和存储程序。定期监测柱效率,例如跟踪压力和峰形的变化,将有助于确定何时更换柱,以确保在其寿命期间始终如一和可靠的性能。
什么是末端封顶?
在色谱法中,端盖法是指用三甲基硅基取代粘合固定相中可接触的硅醇基。经历过这一过程的色谱柱,其残留的硅醇基团活性要低得多。 端盖的技术可以防止极性化合物的峰尾,即使在碱性流动相中也显示出很高的耐久性。这是因为固定相表面覆盖了一层坚固的薄膜。端盖柱还显示出在氢键接受体中的保留率降低,如电离基,而在质子化的碱中的保留率增加。 当功能化二氧化硅在恶劣条件下使用时,端部封盖还可以防止表面被攻击和破坏。