PATROL UPLC プロセス分析システム

溶媒の数：

最大 4 種類から選択：A1 または A2、および B1 または B2 の任意の 2 種類の組み合わせ

溶媒のコンディショニング：

真空脱気（6 チャンネル）：溶媒ごとに 1 チャンネル、プロセスサンプルマネージャー（PSM）希釈液とサンプル洗浄溶媒用に 2 チャンネル

グラジエントの形成：

高圧ミキシング、バイナリーグラジェント

ポンプシール洗浄：

高圧シールおよびプランジャーの背面をフラッシュ洗浄するプログラム可能なアクティブ洗浄システムを装備

グラジエントのプロファイル：

11 種類のグラジエント曲線（直線、ステップ（2）、凹曲線（4）、凸曲線（4）を含む）

プライマリーチェックバルブ：

インテリジェントインテイクバルブ（i² バルブ）

流量正確度：

0.500 mL/分で ±1.0%、Waters AQT/SystemsQT プロトコルに準拠

流量精度：

0.075% RSD または ±0.01 分 SD（0.500 ～ 2.000 mL/分）のいずれか大きい方、事前に混合した溶媒を使用

圧縮率補正：

自動、ユーザーの介入不要

プライム：

ウェットプライムは 4 mL/分で実施

ポンプの組成正確度：

±0.5% 絶対値（フルスケール）、流量 0.5 ～ 2.0 mL/分の 5 ～ 95%

ポンプの組成精度：

0.15% RSD または ±0.04 分 SD のいずれか大きい方（保持時間に基づく）

主な接液部の材質：

316 ステンレススチール、UHMWPE、サファイヤ、ルビー、FEP、PTFE、ETFE、ダイアモンド状コーティング、PEEK および PEEK 合金、チタン合金

溶媒の数：

1 ～ 4 種類、任意の組み合わせ（標準）

オプションの 6 ポート溶媒選択バルブにより溶媒の選択肢を拡張可能

溶媒のコンディショニング：

内蔵された真空脱気、4 つのチャンバー

PSM 希釈液とサンプル洗浄溶媒としてさらに 2 種類

グラジエントの形成：

低圧混合、クオータナリーグラジエント

グラジエントのプロファイル：

11 種類のグラジエント曲線（直線、ステップ（2）、凹曲線（4）、凸曲線（4）を含む）

プライマリーチェックバルブ：

インテリジェントインテイクバルブ（i² バルブ）

流量正確度：

0.5 ～ 2.0 mL/分で ±1.0%

流量精度：

< 0.075% RSD または ±0.020 分 SD のいずれか大きい方（6 回の繰り返し注入に基づく）。

ベースラインノイズ：

1.0 mAU 未満（オプションの 250.0 µL ミキサーを使用する場合 0.1 mAU 未満）（ベースラインノイズ）

混合正確度：

±0.5% フルスケール 5 ～ 90%、0.5 ～ 2.0 mL/分

組成精度：

< 0.15% RSD または ±0.04 分 SD のいずれか大きい方（6 回の繰り返しに基づく）

圧縮率補正：

自動、ユーザーの介入不要

プライム：

ウェットプライムは最大流量 4 mL/分で実行可能

ポンプシール洗浄：

高圧シールおよびプランジャーの背面を洗浄する洗浄システムを装備

流量ランプ：

範囲：2.0 mL/分に達するまで 0.01 ～ 30.00 分

既定値：

2.0 mL/分に到達するまで 0.45 分

主な接液部の材質：

316 L ステンレススチール（QSM）、チタン（bioQSM）、および/または PPS、フッ素ポリマー、フルオロエラストマー、UHMWPE ブレンド、サファイア、ルビー、ジルコニア、Nitronic 60、DLC、PEEK、PEEK ブレンド

自動運転：

リークセンサー、コンソールソフトウェアにより 96 時間分の診断データを表示

最大サンプル数：

プロセスサンプルおよび対照サンプル用に 32 サンプル

内部サンプル数：

32 サンプル（標準の 8 mL バイアルを使用）

外部サンプリング：

1 ポート標準

サンプルの注入回数：

サンプルバイアルあたりの注入回数 60 回

サンプルアクセス：

完全ランダムアクセス

注入モード：

フルループ注入のみ

注入ループ容量：

1 µL、2 µL、または 5 µL サンプルループのみ

希釈範囲：

最大 1：100

注入精度（希釈なし）：

0.5% RSD 以下（カフェインのピーク面積に基づき、フルループ注入を使用）

希釈した場合の注入精度：

1.0% RSD 以下（カフェインのピーク面積に基づき、フルループ注入を使用）

希釈の直線性：

希釈係数 1 ～ 50、偏差係数 0.999 以上

サンプルのキャリーオーバー：

希釈係数 1 ～ 50、前の注入の 0.01% 以下（カフェインを使用して測定）

ニードル洗浄溶媒の消費量：

可変（ユーザーが設定）

サンプル洗浄溶媒の消費量：

可変（ユーザーが設定）

希釈溶媒の消費量：

可変（ユーザーが設定）

最小注入サイクル時間：

注入モードに応じて可変（ユーザーが設定）

最小オンラインサンプル容量：

注入モード、必要なチューブの内径と長さに応じて可変（ユーザーが設定）

最大アットラインサンプル：

1 分析（バイアル）あたりの消費量 100 µL

サンプルコンパートメント：

4.0 ～ 40.0 ℃ に 0.1℃ 毎プログラム可能な温度制御

サンプルコンパートメント：

温度安定性 - 設定値 ±0.5 ℃（コントロールセンサー位置で測定）

サンプルコンパートメント：

温度正確度 - 設定値 ±1.0 ℃（コントロールセンサー位置で測定）

サンプルコンパートメント：

温度分布 - 設定値 ±3 ℃（空気中（バイアル中ではない）で測定）

サンプルコンパートメントの冷却時間：

30 ℃ から 4 ℃ まで 60 分未満