XBridge BEH C8 컬럼 | 186003054

XBridge BEH C8 컬럼, 130Å, 3.5 µm, 4.6 mm X 100 mm, 1/pk

XBridge BEH C8 컬럼은 크로마토그래피 효율성과 처리량을 높이는 강력한 도구를 제공합니다. XBridge BEH C8 흡착제는 XBridge BEH C18 흡착제에 비해 보유력이 낮습니다. 방법을 개발하는 사람들은 보유력이 낮은 컬럼이 제공하는 속도를 선호할 수 있으며, 피크 모양과 크로마토그래피 성능을 개선할 수 있습니다. 삼중 기능으로 결합된 흡착제는 가장 넓은 사용 가능한 pH 범위(1-12), 우수한 저 pH 안정성 및 초저 컬럼 블리드를 제공합니다.

제조 공정의 각 단계는 뛰어난 재현성과 신뢰할 수 있는 성능을 유지하기 위해 엄격하게 제어됩니다. 원자재 특성화부터 최종 배치 분석까지 모든 테스트는 이 컬럼이 실험실 장비 산업의 표준을 초과하고 긴 컬럼 수명 동안 우수한 배치 간 재현성을 제공하도록 보장합니다. 이 컬럼은 품질 관리 방법을 만들거나 LC/MS 분석을 개발하는 것이 목표이든 생산성을 극대화하도록 설계되었습니다. XBridge BEH C8 컬럼은 pH 안정성을 개선하고, 컬럼 신뢰성을 향상시키며, 입자 효율성을 극대화합니다. 이 강력한 조합은 컬럼 수명을 연장하고, 신뢰할 수 있는 분석 견고성을 제공하며, 뛰어난 피크 모양과 높은 용량을 제공합니다.

이 컬럼은 Waters의 최첨단 에틸렌 브리지 하이브리드 입자 기술로 장착되어 있습니다. BEH 합성은 극도로 가혹한 조건에서도 극한의 컬럼 성능과 긴 수명을 보장하는 입자를 생성합니다. 이 입자는 두 가지 고순도 모노머인 테트라에톡시실란과 트리에톡시실릴로부터 준비됩니다. 이는 매우 안정적이고, pH 저항성이 있으며, 기계적으로 강한 입자를 생성합니다. BEH 입자 기술은 기본 입자의 크로마토그래피 성능을 크게 향상시키고 밴드 확산을 감소시킵니다.

BEH 기술은 피크 모양을 개선하는 데 중요한 역할을 합니다. 에틸렌 브리지는 인접한 실라놀을 연결하여 입자 강도를 증가시키고 주입된 샘플과의 부정적인 상호작용을 일으킬 수 있는 자유 실라놀 사이트를 줄입니다. 과도한 엔드캡핑과 같은 전통적인 방법은 넓고 꼬리 모양의 피크를 초래할 수 있습니다. 에틸렌 브리지는 자유 실라놀의 수를 줄여 리간드 결합 및 엔드캡핑에 유리한 입체적 비율을 제공합니다.

귀중한 LC 컬럼은 사용 중 입자 오염으로 인한 손상 위험에 항상 노출되어 있습니다. 이 화학적 오염은 컬럼의 수명을 단축시키고 성능을 크게 저하시킬 수 있습니다. XBridge BEH C8 컬럼을 보호하고 싶다면 XBridge BEH C8 VanGuard 카트리지, 130Å, 3.5 µm, 3.9 mm X 5 mm, 3/pk를 확인해 보세요. XBridge BEH C8 VanGuard 카트리지는 이동상 흐름에서 입자 오염을 제거하여 분석 컬럼의 수명과 성능을 연장하는 데 사용됩니다. 이 카트리지는 3.5 µm 흡착제 입자를 포함하는 모든 4.6 mm I.D. XBridge BEH C8 분석 컬럼을 보호하도록 최적화되어 있습니다. 이러한 컬럼 카트리지는 귀중한 XBridge BEH C8 컬럼을 조기에 교체하는 막대한 비용을 절감할 수 있습니다.